Hyggee

Relief Chamomile Mask 2024-08-09

174 kr 349 kr
3 arviota

Huomioithan, että tämän tuotteen parasta ennen -päivämäärä lähestyy. Tämän päivämäärän jälkeen tuote saattaa vielä olla käyttökelpoinen, mutta emme voi taata sitä. Suosittelemmekin käyttämään tuotteen ennen sitä, jotta lopputulos on paras mahdollinen. Tuotteen parasta ennen -päivämäärä on 09.08.2024.

Hyggee Relief Chamomile Mask on ihana geelinaamio, joka poistaa kasvoilta kuolleita ihosoluja ja tasoittaa ihon tekstuuria. Sisältää 75 % kamomillauutetta ja oikeita kamomillan lehtiä, jotka auttavat vahvistamaan ihon suojakerrosta ja syväkosteuttamaan ihoa. Paju-uute sisältää luontaisesti BHA-happoa, joka kuorii ihoa hellävaraisesti ja ärsyttämättä.

Elvyttävä kasvonaamio sopii myös herkälle, kosteutuksen tarpeessa olevalle iholle. Tuote on loistava myös rasvoittuvalle iholle, sillä se auttaa hillitsemään ihon talintuotantoa.

Syväkosteuttava naamio muodostaa ihon pinnalle suojaavan kerroksen, joka estää kosteutta haihtumasta.

Ei sisällä lisättyjä väriaineita tai hajusteita.

95 ml

Levitä paksu kerros puhtaille kasvoille välttäen silmien ja suun ympärystä. Anna vaikuttaa 20 minuuttia ja huuhtele haalealla vedellä.

Water, Propanediol, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Dipropylene Glycol, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Powder, Butylene Glycol, Carbomer, Tromethamine, Polyglyceryl-10 Laurate, Xanthan Gum,Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Ethylhexylglycerin, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer,Disodium EDTA, Sodium Hyaluronate, Portulaca Oleracea Extract, Centella Asiatica Extract,Cynanchum Atratum Extract, Beta-Glucan, Madecassoside, Sodium Guaiazulene Sulfonate, Asiaticoside,Asiatic Acid, Madecassic Acid, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Salix Alba (Willow) Bark Extract, Caprylyl Glycol

Saattaisit pitää myös näistä

Aiemmin katsomasi tuotteet